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第709章 深紫外光的多重曝光技术!(2 / 2)

张院士正一页页翻动着那份带着深城湿气的“生死状”。

他看得极慢,每翻一页,眉头就锁紧一分,那身洗得发白的中山装随着呼吸微微起伏。

“你要做射频器件,还要在这个节点上搞弯道超车。”

老人合上文件,摘下玳瑁眼镜,那双浑浊却锐利的眼睛直刺过来。

“后生可畏,但你知不知道,这上面画的不仅仅是电路图,更是钱,是命!”

许哲腰杆挺得笔直,像是接受检阅的士兵。

“我知道,这二十亿如果打水漂……我多少会被人谴责。”

“但如果没有这东西,年底的日内瓦会议,我们连在那群洋人面前坐下的资格都没有。”

“我有说不支持吗?”

看着许哲倔强的表情,张院士突然笑了。

他脸上的褶子瞬间舒展开,带着一股子老学究特有的狡黠与豪气。

他把文件往桌上一拍。

“只要是对国家有利的,就是把这把老骨头拆了当柴烧,我也支持!”

“微电子所这几年这就是清水衙门,难得有个敢带着干粮来还要拼命的愣头青。”

许哲紧绷的肩膀猛地一松,刚想道谢,张院士却抬手制止,手指在桌面上重重叩了两下。

“别高兴得太早,支持归支持,科学不是请客吃饭。”

老人起身,走到墙边那张巨大的设备分布图前,指着中间一块红色的区域。

“你的方案我看懂了,设计理念确实超前,甚至可以说天才,但你忽略了一个最致命的物理极限——光刻精度。”

“国内现在能动用的最好设备,拼了老命也只能做到零点一八微米,而你这个器件,要把性能拉满,至少得达到零点零九微米。”

零点一八到零点零九。

看似只是几个数字的差距,实则是横亘在华夏半导体工业面前的一道天堑。

许哲的心猛地往下一沉。

前世他虽然是搞金融的,但也对华夏的其他行业一知半解,知道这就是所谓的“摩尔定律”死结。

没有ASML那种顶级的EUV光刻机,想要强行突破物理极限,无异于痴人说梦。

难道真的要死在这里?

不对。

许哲脑中灵光一闪,前世的一篇技术研报突然浮现在脑海。

在EUV光刻机普及之前,尼康和佳能曾经用过一种“笨办法”来延续摩尔定律。

“张老。”

许哲猛地抬头,眼里的光亮得吓人,“如果是死路,我们就换个走法。”

“既然单次曝光达不到精度,能不能放弃传统光刻逻辑,改用深紫外光的多重曝光技术?”

张院士夹烟的手在半空中停住了。

“多重曝光?”

“对!既然波长受限,那我们就用计算换精度。”

“把原本一层光刻的图形拆分成两层甚至三层,利用现有设备的深紫外光源进行多次错位曝光,再通过化学刻蚀修剪。”

“虽然步骤繁琐了三倍,良品率会暴跌,但理论上,这能不能在零点一八的机台上跑出零点零九的效果?”

死寂。

整个办公室安静得只能听见墙上挂钟“咔哒、咔哒”的走字声。

张院士手里的烟燃到了尽头,烫到了指尖他才猛然惊醒。

他像看怪物一样盯着许哲,嘴唇微微哆嗦。